※商品写真は吸収缶 T/OV付になります
※マスク面体のみです、吸収缶及びフィルタは別売りとなっております
※写真はWT01SC WH、X1フィルタ、X/OV吸収缶になります
重松製作所TW022Sd
T4、X3フィルタ使用時、ダイオキシン類対策レベル1適合、石綿作業 呼吸用保護具区分2適合
X2フィルタ使用時、石綿作業 呼吸用保護具区分4適合
XL3/OV吸収缶使用時、ダイオキシン類対策レベル2適合
XPL3/MX吸収缶使用時、土壌汚染対策 対応●アイピースは、透明度・耐衝撃性に優れたポリカーボネート製です。●アイピースは、キズがつきにくい表面硬化処理をしています。●アイピースと顔の距離が短く、下方視野が広いです。●接顔体・ノーズカップは、肌に優しく、耐熱性・耐寒性に優れたシリコーンゴム製です。●伝声器付きで、マスクを付けたままでも会話が明瞭です
◆対応フィルタ（T4、X3、X2）を付ける事で国家検定に合格した取替え式防じんマスクとしてご使用できます
・T4フィルタ 推奨粉じん及び作業
インジュウム化合物、ナノマテリアル、放射線粉じん、ダイオキシン類（レベル1）
石綿作業 呼吸用保護具区分、、重金属含有粉じん
・X3フィルタ 推奨粉じん及び作業
インジュウム化合物、放射線粉じん、ダイオキシン対（レベル1）
石綿作業 呼吸用保護具区分、、重金属含有粉じん
※ナノマテリアル作業にも適しております
・X2フィルタ 推奨粉じん及び作業
石綿作業 呼吸用保護具区分、重金属含有粉じん
金属ヒューム（溶接・溶断溶解作業等）、タールミスト、オイルミスト
水ミスト（湿式研磨作業等）、土砂・岩石（掘削・粉砕作業等）
※ 対応以外のフィルタ使用は国家検定外品となります。
◆下記吸収缶を取付ける事で各作業に対応したマスクになります
・ XL3/OV： ダイオキシン類対策レベル２適合
・ XPL3/MX：土壌汚染対策■サイズ：S、M、L
※サイズの目安
Ｓ ： 日本人男性の比較的小さい顔、日本人女性の標準
Ｍ ： 日本人男性の標準
Ｌ ： 日本人男性の比較的大きな顔■主な用途
※用途に対応したフィルタ又は吸収缶と組合せてお使いください。
・溶接・溶断溶解作業 金属アーク溶接等作業を継続して行う屋内作業場において使用する場合は、区分RL3は要求防護係数50未満
区分RL2は要求防護係数14未満まで使用可能
・石綿作業（呼吸用保護具の区分2）
・ダイオキシン類対策用（レベル2）
・農薬散布作業（乳剤・水和剤・粉剤）
・重金属含有粉じん
・スプレー塗装作業
・粉体塗装作業
・ローラー塗装作業
・オルト―トルイジン対策
・エチルベンゼン対策
・土壌汚染対策
・火山ガス用
・ナノマテリアルの製造・取扱い作業（ばく露の少ないことが予想されるレベル）
・インジウム化合物対策（15/未満）
※指定防護係数50以上
・放射性粉じん
・除染作業対策（内部被ばくのおそれが大きいとき）
・建築物等の解体・改修工事のがれき処理■防じんマスク時■対応フィルタ：T4、X3、T2
◆T4フィルタ使用時
国家検定番号 ： 第TM649号
捕集効率 ： 99.999%以上(実測平均値)
吸気抵抗 ： 119Pa(実測平均値)
排気抵抗 ： 52Pa(実測平均値)
重量 ： 750g以下
指定防護係数 ： 50
◆X3フィルタ使用時
国家検定番号 ： 第TM639号
捕集効率 ： 99.9%以上(実測平均値)
吸気抵抗 ： 132Pa(実測平均値)
排気抵抗 ： 55Pa(実測平均値)
重量 ： 750g以下
指定防護係数 ： 50
◆X2フィルタ使用時
国家検定番号 ： 第TM650号
捕集効率 ： 98.0%以上(実測平均値)
吸気抵抗 ： 70Pa(実測平均値)
排気抵抗 ： 54Pa(実測平均値)
重量 ： 750g以下
指定防護係数 ： 14■防毒マスク時（濃度0.1%以下での使用）
国家検定合格番号 ： 第TN493号
重量 ： 700g以下■対応吸収缶
T/OV(有機用)
T/HG/AG(ハロゲンガス/酸性ガス用)
T/AM(アンモニア用)
T/SO/HS(亜硫酸ガス/硫化水素用)
T/OV/AG(有機/酸性ガス用)
T/FA(ホルムアルテヒド用)
T/EO2(エチレンオキシド用)
T/MA(メタノール用)
T/ME(水銀用)
X/OV(有機用)
X/HG/AG(ハロゲン/酸性ガス用)
X/EO(エチレンオキシド用)
TP/OV(有機用)
TS/OV(区分S1防じん機能付有機用)
XS/OV(区分S1防じん機能付有機用)
XL3/OV(区分L3防じん機能付有機用)
XPL3/MX(区分L3防じん機能付ミックス缶、土壌汚染対策用)■交換部品
しめひも：50356
吸気弁：50127
ノーズカップ用吸気弁：50101
排気弁：50000●オプション品
カバーグラス：カバーグラスH2